Propriétés thermiques pures de faible densité de cible de pulvérisation de zirconium bonnes

personnalisation de matériaux de revêtement de cible de pulvérisation de zirconium de la grande pureté 99,95%

Description de zirconium

Le zirconium et les alliages de zirconium ont le faible densité, haute résistance spécifique, résistance à la corrosion, tenue aux rayonnements, excellente résistance à l'usure, excellente représentation de traitement, non-toxique, non magnétique, comparée à l'acier inoxydable traditionnel, cuivre, nickel, titane et d'autres alliages en métal, zirconium et alliages de zirconium ont une excellente résistance à la corrosion, qui peut résister à la corrosion de la plupart des acides organiques, d'acides inorganiques, de bases fortes et de quelques sels fondus. Dans le traitement des eaux résiduaires, traitement des denrées alimentaires des produits alimentaires, industrie forte de production acide, elle est principalement employée dans l'équipement et les composants avec des conditions élevées pour la résistance à la corrosion, telle que le réacteur, pompe résistant à l'acide, pompe à chaleur, tuyau d'échange thermique, réservoir d'immersion,
roue à aubes, valve, agitateur, Nozelle et doublure résistant à l'acide de conteneur. L'équipement et les dispositifs de zirconium employés par des entreprises chimiques américaines ont été en service pendant plus de 25 années sans dommages évidents de corrosion. En cours d'exploration des grands fonds de corrosion, l'alliage de zirconium peut non seulement résister à l'érosion de l'eau de mer et le sable et le frottement du fluide et l'usage, mais également s'adapter à l'environnement alternatif de la température de -200 | 200. C'est dû au bas coefficient de dilatation thermique de zirconium, qui peut employer stablement et sans interruption.

Introduction de cible

En enduisant par le matériel de cible de pulvérisation de magnétron tial ou d'autres types de pulvérisez le système de dépôt en conditions techniques appropriées en un grand choix de couche mince fonctionnelle est formé sur la source de pulvérisation de substrat simple a dit, est le but des particules ultra-rapides de charge de boîte bombardant des matériaux de matériel de cible, utilisé dans l'arme à laser de haute énergie, longueur d'onde différente de forme d'onde de sortie de densité de puissance d'interaction de laser avec différents matériaux de cible, peut produire l'effet différent de dommages par exemple : le dépôt de pulvérisation de magnétron d'évaporation est la membrane en aluminium de revêtement d'évaporation de chauffage telle que le remplacement de différents matériaux de cible (tels que la cible d'acier inoxydable et titanique de cuivre en aluminium de nickel, etc.), peut obtenir un système différent de film (tel que le film anticorrosif de usage-résistance dur d'alliage, etc.)

transport négociable

la taille adaptent aux besoins du client sur la base des dessins

Applications : Principalement utilisé dans domaines en cristal, photovoltaïques et autres enduisants de semi-conducteur, électroniques, médicaux, liquides